IT之家11月5日消息 據(jù)每日經濟新聞報道，世界光刻機巨頭ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產EUV光刻機的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV光刻機。據(jù)了解，該產品可生產7nm及以上制程芯片。

另外，ASML也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術，讓邊緣定位精度不斷提高。

光刻機（Mask Aligner) 又名掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

IT之家獲悉，作為全球芯片光刻技術的領導者，本次ASML（阿斯麥）以“光刻未來，攜手同行”為主題亮相第三屆進博會技術裝備展區(qū)。時間是2020年11月5日至10日，位于技術裝備展區(qū)3C6-002。

亮點如下：

• ASML 整體光刻解決方案，全方位保駕護航芯片生產的良率和產能。

• 光刻機模型近距離接觸，帶你領略光刻的神奇。

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